国内半导体行业存在两个最严重的问题，其一就是没有制造高端芯片的光刻机，其二就是没有用于设计先进制程的EDA工业软件，也就是说在芯片行业最核心的硬件和软件，我们都没有，我们有的只是部分芯片设计能力和芯片封装的能力，不得不说，这是最为严重的两个问题，想要解决这两个问题，我们有三条路可以走，一就是在成熟芯片上实现自给自足，二就是通过借力来实现高端芯片的量产，三就是彻底解决光刻机和工业软件的问题，那么今天我们就主要聊聊光刻机的问题，从光刻机的角度来看看国内半导体行业发展现状。
光刻机是什么时候成为了国人关注的焦点？其实就是美国禁止荷兰阿斯麦出货之后，不少国人都对此感到愤怒不已，也正是因为如此，国内出现了大量关注光刻机发展的群众，众所周知，阿斯麦是全球最大的半导体设备制造商，特别是用于制造先进制程芯片的关键设备，全世界也只有阿斯麦研发出来了，美国不允许荷兰出售EUV光刻机给中国，就是害怕中国在芯片领域超越美国，也正是因为如此，我国为了解决这个问题，更是投入巨额资金支持中科院研发光刻机，国内芯片企业也不甘落后，全力研发可以替代EUV光刻机的光刻设备。
那么现在国内光刻机究竟发展到哪一步了呢？一家中国半导体公司暴露了其真相，我们都知道，国产光刻机最高光的时刻，那就是富士康订购46台国产光刻机，这也一度让不少国人感到兴奋不已，因为以前谈到光刻机，那都是购买荷兰阿斯麦的光刻机，可是富士康偏偏采购了46台国产光刻机，这也让不少人以为国产光刻机取得重大突破，难道说已经可以和阿斯麦一较高下了吗？然而就在我们高兴没有多久，一家中国半导体公司彻底暴露了其真相。
去年一家国内芯片厂商，也就是积塔半导体公布了设备采购的最终结果，那就是采购33台设备，其中有三十台来自中国企业，3台则是阿斯麦的光刻机订单，其中两台则是i-line光刻机，另外一台则是Krf光刻机，也就是说国产光刻机一个也没有，并没有成为积塔半导体的选择，那么这究竟是为什么呢？难道说我们比不过阿斯麦的EUV光刻机吗？就连普通光刻机都比不过吗？不少网友对此表示非常失望，甚至有人说哪怕技术还不如阿斯麦，我们也应该使用国产光刻机。
不得不说，支持国货固然重要，但是也要认清现实，特别是积塔半导体采购的设备，并非全是光刻机设备，其中还有蚀刻、抛光、清洗等设备，虽然我们在光刻机领域不如国外，但是无论是蚀刻还是抛光又或是清洗等国产设备，我们都已经达到国际领先水平，也正是因为如此，积塔半导体采购的设备就有30台来自中国企业，这不也是支持国产、支持国货吗？就是因为现在在很多人眼里只有国产光刻机，他们一旦发现我们自己的企业，并没有使用自己人的产品，就会在网络上满嘴恶评，其实真的没有必要，因为我们在芯片设备领域并不是一无是处。
其实早从2020年在光刻机领域加大投入以后，2021年我们就已经成功研制出，国产第一台28nm的immersion式光刻机，2022年国产14nm光刻机的消息也彻底曝光，特别是去年9月份，上海更是发布了一则重要消息，那就是我国已经可以实现14nm芯片的生产，10月份上海经信委更是正式发布公告，宣称14nm国产芯片已全面批量生产，特别是在美国持续对荷兰施压的情况下，中国科学院合肥物质科学研究院，更是已经成功研制出了10nm级别的光刻机，可以说国内光刻机发展的速度越来越快了，相信过不了多久就会追赶国外技术。
比如现在已经有科研机构在研发5nm光刻机，更是有些国内顶尖科技企业和大学，都纷纷开始研发3nm和2nm的光刻机设备，所以话不要说得太早，我们应该在这个关键时期认清现实，那就是我们虽然与国外技术还有着一段距离，但是我们追赶的速度是比国外研发的速度还要更快，这就好比两个运动员比赛，其中一个率先领跑，已经把另一个甩得老远，后者虽然比前者要跑得更快，但是想要超越前者，还需要一定的时间。
也许这个时候又有人要说吹牛了，其实这不仅不是吹牛，反而是真正的现实，同样就好比两个运动员，一个是我们国家的运动员，另一个是国外的运动员，由于我们起步较晚，所以一直处于落后的地步，就如同我们在光刻机领域的研发一样，越是在这个关键时刻，我们越应该鼓励运动员加油，怎么看好国产光刻机的发展，反而变成吹牛了呢？为何不能把它当成一种鼓励呢？不得不说，国内半导体行业的发展，虽然还处于落后的阶段，但是我们的思想不能落后，我们虽然不能为国家做贡献，但是至少我们可以给国家加油，给中国的半导体事业加油。
